[发明专利]高纯度旋转靶材杂质控制方法在审
| 申请号： | 201610227524.3 | 申请日： | 2016-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN105929862A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 肖世文;黄显锋 | 申请（专利权）人： | 广州市尤特新材料有限公司 |
| 主分类号： | G05D11/02 | 分类号： | G05D11/02 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;黄华莲 |
| 地址： | 510800 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及旋转靶材的制备领域，具体涉及一种高纯度旋转靶材杂质控制方法；高纯度旋转靶材杂质控制方法包括以下步骤：S1、采用粉体原料，且每批体原料需取样经ICP检测纯度并符合要求后再入库；S2、生产控制：在喷涂房内采用密封式混粉机混粉，混粉机使用前用惰性气体喷洗混粉机的混粉腔及周边区域；S3、清洗控制：靶材表面抛光精磨加工后，对靶材进行清洗；S4、包装控制和运输控制：靶材清洗过后，进行真空包装，靶材密封好后装入运输箱中，同时在运输箱中采用缓冲块加以固定；采用本发明技术方案的高纯度旋转靶材杂质控制方法，旋转靶材的纯度可达99.9％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 旋转 杂质 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种高纯度旋转靶材杂质控制方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、原料控制：采用粉体原料，且每批体原料需取样经ICP检测纯度并符合要求后再入库；S2、生产控制：在喷涂房内采用密封式混粉机混粉，混粉机使用前用的惰性气体喷洗混粉机的混粉腔及周边区域；S3、清洗控制：靶材表面抛光精磨加工后，对靶材进行清洗；S4、包装控制和运输控制：靶材清洗过后，进行真空包装，靶材密封好后装入运输箱中，同时在运输箱中采缓冲块加以固定。
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