[发明专利]一种水胶厚度的测量方法有效
| 申请号： | 201610202990.6 | 申请日： | 2016-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN105890528B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 林奇颖 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种水胶厚度的测量方法，用于检测触控屏中水胶的厚度，包括如下步骤：提供一带有CCD相机的显微镜，将触控屏放置于所述显微镜下，镜头下降以聚焦至所述触控屏中的触控电极且所述CCD相机连续拍照；提供一图像分析系统，用于接收及分析所述CCD相机抓取的图像，记录触控电极最清晰图像对应的所述镜头位置w1；所述镜头下降以聚焦至所述触控屏中的液晶面板，且所述CCD相机连续拍照；通过所述图像分析系统接收所述CCD相机抓取液晶面板的图像并进行亮度分析，所述图像分析系统确定亮度极值的图像，记录该图像对应的所述镜头位置w2，则水胶厚度h＝|w1‑w2|。通过本方法可以达到提升水胶厚度的测量的效率，降低测量成本的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 水胶 厚度 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种水胶厚度的测量方法，用于检测触控屏中水胶的厚度，其特征在于，包括如下步骤：提供一带有CCD相机的显微镜，将触控屏放置于所述显微镜下，镜头下降以聚焦至所述触控屏中的触控电极且所述CCD相机连续拍照；提供一图像分析系统，用于接收及分析所述CCD相机抓取的图像，并记录触控电极最清晰图像对应的所述镜头位置w1；所述镜头下降以聚焦至所述触控屏中的液晶面板，且所述CCD相机连续拍照，所述CCD相机拍摄到的图像亮度先增大后减小；通过所述图像分析系统接收所述CCD相机抓取液晶面板的图像并进行亮度分析，所述图像分析系统确定亮度极值的图像，并记录该图像对应的所述镜头位置w2，则水胶厚度h＝|w1‑w2|。
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