[发明专利]一种用于光学耦合的光纤阵列制作方法及耦合方法、器件有效

专利信息
申请号: 201610196689.9 申请日: 2016-03-31
公开(公告)号: CN105717577B 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 黄钊;张博;胡毅;马卫东 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02B6/26 分类号: G02B6/26
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 朱海江
地址: 430205 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种用于光学耦合的光纤阵列制作方法及耦合方法、器件,光纤阵列制作包括如下步骤:将光纤阵列的裸纤压入V型槽中,裸线末端与V型槽末端对齐,在压入V型槽的裸纤上盖上盖玻片固定,该盖玻片不覆盖V型槽的末端,该盖玻片的末端与V型槽的末端相隔大于与该光纤阵列耦合的硅光芯片台阶深度的距离,使光纤阵列的末端在V形槽的支撑下形成一个台阶;在未被盖玻片盖住的裸纤上点胶固定住裸纤;在光纤阵列末端的台阶处涂上与V型槽末端平齐的填充物;步骤4、将光纤阵列端面抛光,抛光完成后除去填充物,露出台阶。本发明采用台阶型光纤阵列解决了普通光纤阵列由于和芯片耦合端面距离远导致的耦合损耗大的问题。
搜索关键词: 一种 用于 光学 耦合 光纤 阵列 制作方法 方法 器件
【主权项】:
1.一种用于光学耦合的光纤阵列制作方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤1、将光纤阵列末端的涂覆层去除,露出裸纤;步骤2、硅光芯片的输入侧和输出侧分别包括耦合端面和划片端面,耦合端面和划片端面之间预留有一段保护距离,形成台阶状的硅光芯片端面;将裸纤压入V型槽中,裸纤末端与V型槽末端对齐,在压入V型槽的裸纤上盖上盖玻片固定,该盖玻片不覆盖V型槽的末端,该盖玻片的末端与V型槽的末端相隔大于与该光纤阵列耦合的硅光芯片台阶深度的距离,使光纤阵列的末端在V型槽的支撑下形成一个台阶;在V型槽的支撑下形成在光纤阵列末端形成的台阶深入硅光芯片一侧端面的台阶内,使得光纤阵列的末端与一侧的耦合端面相耦合,光纤阵列的盖玻片末端与硅光芯片的划片端面相对;步骤3、在未被盖玻片盖住的裸纤上点胶固定住裸纤;在光纤阵列末端的台阶处涂上与V型槽末端平齐的填充物;步骤4、将光纤阵列端面抛光,抛光完成后除去填充物,露出台阶。
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