[发明专利]基准位置获取方法、基准位置获取装置、图案描绘方法、图案描绘装置、以及记录程序的记录媒体有效
申请号: | 201610183193.8 | 申请日: | 2016-03-28 |
公开(公告)号: | CN106019851B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 谷口和隆;中西健二 | 申请(专利权)人: | 株式会社思可林集团 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 曹晓斐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种基准位置获取方法、基准位置获取装置、图案描绘方法、图案描绘装置、以及记录程序的记录媒体。从自设计上的图案即设计图案抽选的多个注目图像(91)中的每一个,获取相对于平行于第1方向的轴对称的第1形状(921)(步骤S22)。获取第1形状在第1方向上的长度的合计即第1总长度(步骤S23)。对垂直于第1方向的第2方向也进行同样的处理,而获取第2总长度(步骤S24、S25)。根据第1总长度以及第2总长度,获取表示注目图像适合于基准位置图像的程度的得分(步骤S26)。基于得分,决定多个基准位置,并获取对应的多个基准位置图像(93)。 | ||
搜索关键词: | 基准位置 基准位置图像 图案描绘装置 获取装置 记录程序 记录媒体 图案描绘 图像 设计图案 轴对称 抽选 平行 垂直 图案 | ||
【主权项】:
1.一种基准位置获取方法,从设计图案获取用以检测电路基板上的实际图案相对于设计上的图案即设计图案的偏移量的多个基准位置、以及对应的多个基准位置图像,所述基准位置获取方法包括如下步骤:a)从设计图案抽选以注目位置为中心的预先确定的范围作为注目图像;b)在所述注目图像中,获取相对于平行于第1方向的轴对称的第1形状;c)获取所述第1形状在所述第1方向上的长度的合计即第1总长度;d)在所述注目图像中,获取相对于平行于第2方向的轴对称的第2形状,所述第2方向垂直于所述第1方向;e)获取所述第2形状在所述第2方向上的长度的合计即第2总长度;f)至少使用所述第1总长度以及所述第2总长度,而求出所述注目位置上的得分;g)通过重复进行所述a)至f)步骤,而求出对应于多个注目位置的多个得分;以及h)基于所述多个得分决定多个基准位置,并获取对应的多个基准位置图像。
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