[发明专利]一种减少过敏反应的头孢唑肟钠新晶型及其制剂有效
| 申请号： | 201610137387.4 | 申请日： | 2016-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN105622635B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 蒋晨;胡昌勤;周晓东 | 申请（专利权）人： | 重庆福安药业集团庆余堂制药有限公司;中国食品药品检定研究院化学药品检定所 |
| 主分类号： | C07D501/20 | 分类号： | C07D501/20;C07D501/12;A61K31/546;A61P31/04;A61P11/00;A61P1/16;A61P13/00;A61P7/00;A61P17/00;A61P25/00;A61P15/00;A61P19/00 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可减少过敏反应的头孢唑肟钠化合物晶型、制备方法及其药物制剂。所述头孢唑肟钠采用X‑射线粉末衍射法测定，以2θ±0.2°衍射角表示的X射线粉末衍射图谱在6.8°、11.5°、14.6°、15.8°、19.4°、20.2°、21.8°、24.0°、27.4°和30.5°处显示出特征衍射峰。本发明的头孢唑肟钠化合物杂质含量比现有技术明显降低，且具有良好的稳定性、流动性、不易吸湿、溶解速度快，并且临床效果好，不良反应发生率低，非常适合临床应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 减少 过敏 反应 头孢 唑肟钠新晶型 及其 制剂 | ||
【主权项】：
一种头孢唑肟钠化合物的晶体，其特征在于，采用X‑射线粉末衍射法测定，以2θ±0.2°衍射角表示的X射线粉末衍射图谱在6.8°、11.5°、14.6°、15.8°、19.4°、20.2°、21.8°、24.0°、27.4°和30.5°处显示出特征衍射峰。
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