[发明专利]一种宽场超分辨荧光显微成像装置有效
| 申请号： | 201610130282.6 | 申请日： | 2016-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN105784653B | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;陈友华;刘旭;方月;朱大钊 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种宽场超分辨荧光显微成像装置，包括：光源；调制单元，将光源发出的光束调制为可发生干涉的两束p偏振光和两束s偏振光，并用于改变两组光束的干涉相位差；二向色镜，两束p偏振光和两束s偏振光在其表面形成干涉条纹，并由其反射作为照射样品的结构散斑照明光，所述结构散斑照明光具有阵列分布的亮斑；成像单元，包括将所述结构散斑照明光投影到样品的显微物镜，以及用于对样品受激辐射荧光成像的相机。本发明可以同时兼顾宽的成像视场和实现超衍射极限的分辨率，通过多幅图像的移频迭代，不依赖结构光函数，因而可以很好地保证图像的超分辨率，且可以提高图像信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 宽场超 分辨 荧光 显微 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种宽场超分辨荧光显微成像装置，其特征在于，包括：光源；调制单元，将光源发出的光束调制为可发生干涉的两束p偏振光和两束s偏振光，并用于改变两组光束的干涉相位差；所述的调制单元包括位于光源光路上的第一二分之一波片(6)和第一分束器；并由第一分束器分束为第一p偏振光和第一s偏振光；所述第一p偏振光光路上依次设有第二二分之一波片(8)和第二分束器，所述第二分束器将光束分束为第二p偏振光和第二s偏振光，所述第二s偏振光经光路上的第一四分之一波片(12)和第一反射镜(15)成为第三p偏振光；所述第三p偏振光和第二p偏振光为在二向色镜(26)表面产生水平干涉条纹的两束p偏振光；二向色镜(26)，两束p偏振光和两束s偏振光在其表面形成干涉条纹，并由其反射作为照射样品的结构散斑照明光，所述结构散斑照明光具有阵列分布的亮斑；成像单元，包括将所述结构散斑照明光投影到样品的显微物镜(29)，以及用于对样品受激辐射荧光成像的相机(32)。
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