[发明专利]一种顾及辐射二维分布的影像间的匀光匀色方法及系统有效

专利信息
申请号: 201610111326.0 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105787896B 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 孙开敏;李文卓;李鹏飞;眭海刚 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T3/40
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 严彦
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种顾及辐射二维分布的影像间的匀光匀色方法及系统,包括对待匀光匀色影像进行对象级平滑处理去除前景过亮和过暗目标,统计均值和方差,利用整体统计参数对每张平滑后的影像进行辐射调整;对辐射调整结果进行预拼接得到参考低频影像;进行Contourlet变换得到分离后的高低频部分,利用差值法对低频部分进行辐射调整,进行Contourlet逆变换得到单张辐射调整后的影像;对所有辐射调整后的影像进行拼接得到最终匀光匀色结果拼接影像。本发明处理方法清晰,可操作性强,不仅可以消除不同时期影像间亮度色调不一致问题,同时也能解决影像本身由于传感器限制导致的亮度分布不一致问题,使得最终的影像拼接结果有更好的视觉效果。
搜索关键词: 影像 辐射 匀光 匀色 拼接 二维分布 不一致 低频影像 调整结果 亮度分布 亮度色调 平滑处理 视觉效果 影像拼接 整体统计 暗目标 差值法 传感器 逆变换 平滑 方差 去除 参考 清晰 统计
【主权项】:
1.一种顾及辐射二维分布的影像间的匀光匀色方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,设共有N张待拼接影像Ii,i=1,2,3...N,利用对象级的平滑方法去除单张待拼接影像Ii中的高亮或过暗的前景目标,得到对象级平滑后的影像SIi,i=1,2,3...N;步骤2,统计所有对象级平滑后的影像SIi的均值SIim和方差SIiv,得到平滑后整体的均值m和方差v;步骤3,根据均值m和方差v,对各对象级平滑后的影像SIi进行基于均值方差的辐射调整,得到辐射调整结果影像Ii′,i=1,2,3...N;步骤4,对所有N张辐射调整结果影像Ii′进行预拼接,并对预拼接结果进行平滑得到整体参考低频信息影像B;步骤5,对Ii、SIi和BIi分别进行Contourlet变换获取对应的低频部分和高频部分其中BIi为在整体参考低频信息影像B上根据待拼接影像Ii对应位置裁剪得到的影像,i=1,2,3...N;步骤6,对进行进一步低通滤波处理,得到低通滤波结果利用获取的变换低频部分的低通滤波结果以及利用差值公式或者比值公式得到调整后的结果所述差值公式如下, I i L ′ = I i L - ( SI i L L - BI i L L ) = I i L - SI i L L + BI i L L ]]>所述比值公式如下, I i L ′ = I i L / ( SI i L L / BI i L L ) = ( I i L / SI i L L ) *
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