[发明专利]用于制造消色差双棱镜阵列的方法有效
| 申请号： | 201610086281.6 | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN105872323B | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 尹淳义;邓兆展 | 申请（专利权）人： | 豪威科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G02B5/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种广角摄影机及其制造方法，其包含具有多个像素次阵列及设在基板第一侧上的光学组件阵列的传感器。该光学组件中的每个能够从视场在不同的像素次阵列上形成影像。该广角摄影机在该基板的第二侧上还包含消色差双棱镜阵列，其中该消色差双棱镜中的每个经排列对齐以使用不同的光学组件提供视角。该传感器于具有小型化规格的同时可捕获广角视场。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 色差 棱镜 阵列 广角 摄影机 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造具有N x M个部分的消色差双棱镜阵列的方法，所述方法包括：在基板表面上形成第一棱镜阵列，每个第一棱镜设于所述N x M个部分中的一个内，且由第一材料所组成；以及在所述第一棱镜阵列上形成第二棱镜阵列，通过在所述基板表面上布置覆盖每个第一棱镜的、不同于所述第一材料的第二材料的毗连层，每个第二棱镜设于所述N x M个部分中的一个内，每个第二棱镜对应于所述毗连层在对应的第一棱镜上方的区域，并且每个第二棱镜与对应的第一棱镜反向地相互结合，其中，所述第一材料的阿贝数比第二材料的阿贝数低，所述第一材料的折射率比第二材料的折射率高，形成所述第二棱镜阵列的步骤包括使用第二模具模制所述毗连层，所述第二棱镜阵列具有(i)在平行于所述基板表面的平面上超出所述第一棱镜阵列的区域的单一第二区域以及(ii)分别与对应的第一棱镜对应的多个区域。
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