[发明专利]与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物在审
| 申请号： | 201610064533.5 | 申请日： | 2010-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN105759569A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | A·赞皮尼;V·简恩;刘骢;S·克雷;O·昂格伊 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;C07D251/32;C08G73/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物。本发明提供了一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的。 |
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| 搜索关键词： | 光刻 一起 使用 涂料 组合 | ||
【主权项】：
一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物：![]()
其中所述基团R1OOC(CH2)n‑、R2‑和R3OOC(CH2)m‑中至少两个是不同的酸或酯基团；和R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基；和n和m可以相同或不同，各自是一个整数；所述化合物具有卤素取代基；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的：![]()
其中所述基团R1OOC(CH2)n‑、R2‑和R3OOC(CH2)m‑中至少两个是不同的酸或酯基团；和R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基；和n和m可以相同或不同，各自是一个整数。
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