[发明专利]提高低温陶瓷涂层黏着性的方法在审

专利信息
申请号: 201610064112.2 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN105834918A 公开(公告)日: 2016-08-10
发明(设计)人: 宫坂四志男 申请(专利权)人: 株式会社不二机贩
主分类号: B24C1/10 分类号: B24C1/10;B24C1/08;C23C14/02;C23C16/02
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种提高低温陶瓷涂层黏着性的方法,其中可用低温陶瓷涂布在金属制品上形成具有高黏着强度的陶瓷膜。该方法包含:喷砂处理步骤,其包含混合具有三种或三种以上近似但不同粒径的基本上球状的细粒,该细粒的硬度等于或高于该金属制品的基底材料的硬度,且通过压缩空气将该细粒间歇喷射至该金属制品上;平滑化步骤,其包含抛光该金属制品的待处理表面以形成平滑部分;及低温陶瓷涂布步骤,其包含在等于或低于该基底材料的回火温度下,在该金属制品的该表面上形成该陶瓷膜,其中该喷砂处理步骤及该平滑化步骤在该低温陶瓷涂布步骤之前进行。
搜索关键词: 提高 低温 陶瓷 涂层 黏着 方法
【主权项】:
一种提高低温陶瓷涂层黏着性的方法,其包含:喷砂处理步骤,其包含混合具有三种或三种以上在#280(平均直径的平均值:62μm至73.5μm)至#1000(平均直径的平均值:14.5μm至18μm)范围内的近似但不同粒径的基本上球状的细粒,该细粒的硬度等于或高于金属制品的基底材料的硬度,且以与压缩空气混合的流体形式,以0.5秒至5秒的时间间隔,在0.2MPa至0.6MPa的喷射压力下,以150m/sec至250m/sec的喷射速度,且以100mm至250mm的喷射距离将该细粒间歇喷射至该金属制品上,持续0.1秒至1秒的时间;平滑化步骤,其包含抛光该金属制品的待处理表面以形成平滑部分;及低温陶瓷涂布步骤,其包含在等于或低于该金属制品的该基底材料的回火温度下,在该金属制品的该表面上形成陶瓷膜,该喷砂处理步骤及该平滑化步骤在该低温陶瓷涂布步骤之前进行。
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