[发明专利]一种连续式镀膜装置有效
| 申请号： | 201610061031.7 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN105568234B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 王学雷;朱景河;黄伟东;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 章兰芳 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，在后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架用于承载基片；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。在本发明提供的连续式镀膜装置的工作辉光区域与阴极靶材溅射区域相连，使得基片在镀膜前不接触腔室里的微粒，提高了膜层的质量。同时，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，所述前腔室和后腔室均设有排气口，其特征在于：在所述后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的作为阴极的靶材及背板、载片架，所述载片架用于承载基片；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利（惠州）智能显示有限公司，未经信利（惠州）智能显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610061031.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：成膜装置和成膜方法
- 下一篇：一种同质双层氧化铪减反膜及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
