[发明专利]光学片材、凹凸结构及在基板上形成凹凸结构的方法有效

专利信息
申请号: 201610051301.6 申请日: 2011-03-28
公开(公告)号: CN105572790B 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 王康华;王凯俊;叶芳君;杨景安;黄怡君 申请(专利权)人: 友辉光电股份有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;G02B3/00;G02B5/02
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种光学片材、一种凹凸结构以及一种在基板上形成凹凸结构的方法,其中,光学片材包含:基底层,具有光输入表面和位于所述光输入表面的相反侧的光输出表面;棱镜结构,配置在所述基底层的所述光输出表面上,其中所述棱镜结构包含在第一方向上延伸的多个棱镜;以及透镜结构,配置在所述基底层的所述光输入表面上,其中所述透镜结构包含在第二方向上延伸的多个透镜;其中所述多个透镜的截面图上定义多个谷,其中所述多个谷包含第一谷和第二谷,其中所述第一谷距所述光输入表面的高度不同于所述第二谷距所述光输入表面的高度,用以扩散由所述多个透镜进入的光。
搜索关键词: 光学 凹凸 结构 基板上 形成 方法
【主权项】:
一种光学片材,其特征在于,包含:基底层,具有光输入表面和位于所述光输入表面的相反侧的光输出表面;棱镜结构,配置在所述基底层的所述光输出表面上,其中所述棱镜结构包含在第一方向上延伸的多个棱镜;以及透镜结构,配置在所述基底层的所述光输入表面上,其中所述透镜结构包含在第二方向上延伸的多个透镜;其中所述多个透镜的截面图上定义多个谷,其中所述多个谷包含第一谷和第二谷,其中所述第一谷距所述光输入表面的高度不同于所述第二谷距所述光输入表面的高度,用以扩散由所述多个透镜进入的光。
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