[发明专利]抛光层分析器和方法有效
申请号: | 201610049405.3 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN105842255B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | S·章;J·蔡;F·V·阿赫奥拉;A·旺克;M·加萨;W·A·赫史克恩;J·D·塔特;L·H·蒋;S-T·金 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡嘉倩;陈哲锋 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供一种抛光层分析器,其中所述分析器经配置以检测聚合薄片中的宏观不均匀性且将所述聚合薄片分类成可接受或待检。 | ||
搜索关键词: | 抛光 分析器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抛光层分析器,其用于分析适用作化学机械抛光垫中的抛光层的聚合薄片,所述抛光层分析器包含:暗匣;和多个夹盘,其中所述多个夹盘中的每一夹盘:(a)包含:中央透明部分,其具有顶部表面、底部表面和外围边缘;其中所述顶部表面与所述底部表面实质上平行;且其中所述顶部表面为实质上平滑的;和固持区域,其围绕所述中央透明部分的所述外围边缘;其中所述固持区域包含接触表面、多个同心凹槽和多个真空孔口;其中所述多个真空孔口与所述多个同心凹槽连通以便于向所述多个同心凹槽施加真空;其中所述接触表面与所述中央透明部分的所述顶部表面实质上平面;其中所述多个同心凹槽具有凹槽宽度W和凹槽间距P;且其中W
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