[发明专利]一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统在审
| 申请号： | 201610046227.9 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN105487349A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 赵华;张伟;徐巍;王翰文;马汝治 | 申请（专利权）人： | 江苏影速光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221399 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。包括设置于基座(3)上的步进轴(2)和扫描轴(4)；以及固定于所述基座(3)两侧的DMD器件投影光路(5)。本DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，显著提高了产能，增加了工作的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 dmd 投影 激光 垂直 双面 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统，其特征在于，包括设置于基座(3)上的步进轴(2)和扫描轴(4)；以及固定于所述基座(3)两侧的DMD器件投影光路(5)。
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