[发明专利]剥离膜及剥离膜的制造方法在审
| 申请号： | 201610045146.7 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN105838274A | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 黑川敦史;高桥亮;宫本皓史 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/02 | 分类号： | C09J7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 刘晓迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有平滑性且耐粘连性优良的剥离膜及剥离膜的制造方法。本发明的剥离膜(1)具有由聚酯薄膜构成的基材(11)、和在基材(11)的一表面(11a)上涂敷剥离剂层形成用组成物而设置的剥离剂层(12)，基材(11)的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以上且40nm以下，最大突起高度(Rp)为50nm以上且1000nm以下，剥离剂层(12)的厚度为0.05μm以上且0.35μm以下，由使用原子间力显微镜测定的力曲线算出的剥离剂层(12)的粘合能量为15mJ/m2以上且35mJ/m2以下。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种剥离膜，其特征在于，具有：由聚酯薄膜构成的基材；在所述基材的一表面上涂敷剥离剂层形成用组成物而设置的剥离剂层，所述基材的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以上且40nm以下，最大突起高度(Rp)为50nm以上且1000nm以下，所述剥离剂层的厚度为0.05μm以上且0.35μm以下，由使用原子间力显微镜测定的力曲线算出的所述剥离剂层的粘合能量为15mJ/m2以上且35mJ/m2以下。
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