[发明专利]光刻投影物镜高阶波像差检测标记和检测方法在审
| 申请号： | 201610029787.3 | 申请日： | 2016-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN105629677A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 诸波尔;李思坤;王向朝;闫观勇;沈丽娜;张恒;孟泽江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻投影物镜高阶波像差检测标记和检测方法。采用方向取向不同，尺寸相同的一维图形作检测标记。仿真检测标记的空间像，对仿真空间像集合进行主成分分析和多元线性回归分析，建立对大数值孔径光刻机投影物镜高阶波像差敏感的检测模型；采集检测标记的实测空间像，使用该检测模型对实测空间像拟合得到光刻投影物镜的波像差。本发明建立了对高阶波像差敏感的检测模型，实现了大数值孔径光刻机投影物镜的泽尼克像差Z5～Z64的高精度检测，具有检测速度快，精度高，无需增加额外硬件成本的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 高阶波像差 检测 标记 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投影物镜高阶波像差检测标记，其特征在于，所述的检测标记由方向取向不同，尺寸相同的一维图形构成：1)所述的一维图形方向取向包含0°，30°，45°，60°，90°，120°，135°和150°八个方向；2)各个方向取向上的一维图形均为孤立透射空，透射空的宽度最小为光刻机曝光波长的1/2，最大不超过光刻机曝光波长的10倍；检测标记的周期不超过光刻机曝光波长的50倍；所述的宽度和周期都是硅面宽度。
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