[发明专利]真空处理装置和质谱分析仪有效
申请号: | 201580084663.9 | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN108292584B | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 松下知義 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01J49/04 | 分类号: | H01J49/04;G01N27/62 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 能够充分抑制在使对象物在真空室内移动时产生释气。真空处理装置(100)包括:真空室(1);载置台(2),其配置在真空室(1)的内部,供作为处理对象的对象物载置;内部导轨(31),其铺设在真空室(1)的内部,用于引导载置台(2);贯通孔(103),其形成于真空室(1)的侧壁(102);连结棒(4),其一端与载置台(2)连结,并且贯穿于贯通孔(103),另一端配置在真空室(1)的外部;可动构件(5),其连结于连结棒(4)的另一端;驱动机构(8),其配置在真空室(1)的外部,用于使可动构件(5)移动;以及波纹管(6),其配置在可动构件(5)与侧壁(102)之间,以保持真空室(1)的气密性的状态追随可动构件(5)的位移。 | ||
搜索关键词: | 真空室 可动构件 载置台 真空处理装置 配置 对象物 贯通孔 连结棒 侧壁 连结 质谱分析仪 处理对象 驱动机构 室内移动 波纹管 气密性 外部 导轨 释气 载置 追随 铺设 贯穿 移动 | ||
【主权项】:
1.一种真空处理装置,其中,该真空处理装置包括:真空室;载置台,其配置在所述真空室的内部,供作为处理对象的对象物载置;内部导轨,其铺设在所述真空室的内部,用于引导所述载置台;贯通孔,其形成于所述真空室的侧壁;连结棒,其一端与所述载置台连结,并且贯穿于所述贯通孔,另一端配置在所述真空室的外部;可动构件,其连结于所述连结棒的所述另一端;驱动机构,其配置在所述真空室的外部,用于使所述可动构件移动;波纹管,其配置在所述可动构件与所述侧壁之间,以保持所述真空室的气密性的状态追随所述可动构件的位移;外部导轨,其铺设在所述真空室的外部,用于引导所述可动构件;以及共用基台,其横跨所述真空室的内部和外部地延伸,在上表面设置有所述内部导轨和所述外部导轨。
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