[发明专利]制造薄膜电池中的锂沉积工艺中使用的掩蔽装置、用于锂沉积工艺的设备、制造薄膜电池的电极的方法和薄膜电池在审
| 申请号： | 201580079884.7 | 申请日： | 2015-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN107615557A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 安科·赫尔密西;托马斯·沃纳·兹巴于尔;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯特凡·凯勒;格奥尔·约斯特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01M10/0585 | 分类号： | H01M10/0585;H01M10/04;H01M4/139 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容提供一种制造薄膜电池中的锂沉积工艺中使用的掩蔽装置(100)。掩蔽装置(100)包括由金属或金属合金制成的掩模部分(110)、和在掩模部分(110)中的一个或多个开口(120)，其中一个或多个开口(120)经构造以允许沉积材料的颗粒穿过掩模部分(110)，而且其中一个或多个开口(120)中的每个开口的尺寸为至少0.5cm2。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 薄膜 电池 中的 沉积 工艺 使用 掩蔽 装置 用于 设备 电极 方法 | ||
【主权项】：
一种制造薄膜电池中的锂沉积工艺中使用的掩蔽装置，包括：由金属或金属合金制成的掩模部分；和在所述掩模部分中的一个或多个开口，其中所述一个或多个开口经构造以允许沉积材料的颗粒穿过所述掩模部分，而且其中所述一个或多个开口中的每个开口的尺寸为至少0.5cm2。
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