[发明专利]用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统和方法有效
申请号: | 201580079392.8 | 申请日: | 2015-05-29 |
公开(公告)号: | CN107567382B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | S·皮罗伯;B·J·格尔博 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | B29D11/00 | 分类号: | B29D11/00;B24B13/00;G05B19/418 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杜文树 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明披露了一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统和方法,其中,用户向所述实验室管理系统(LMS 101)提供镜片处方,所述镜片设计系统(LDS 103)计算基于其制造镜片的制造参数,并且分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的一个或多个镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的偏差,所述分析器进一步被配置成用于基于所述偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。所述系统使用统计学分析来确定可以向给定产品、半成品、材料、或镜片设计应用的补偿因子,以提高实验室合格率。通过使用监测与配置系统,用户跟踪所述实验室的性能的演变并且标识影响合格率的方面。用户例如通过限定如何计算和应用所述补偿因子来限定计算系统如何优化所述实验室的性能。 | ||
搜索关键词: | 用于 补偿 光学镜片 制造 过程 中的 偏差 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统,包括:分析器,所述分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的一个或多个镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的偏差,所述分析器进一步被配置成用于基于所述偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。
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