[发明专利]一种降低基于DMPO的IMRT规划中的局部热/冷点的方法、装置、系统和介质有效
| 申请号： | 201580075842.6 | 申请日： | 2015-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN107223066B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | V·兰加纳坦;G·乔安托;P·库马尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种调节现有处置计划的方法和相关系统。基于双目标函数系统运行第二优化，所述双目标函数系统包括用于关于现有计划的优化的第一目标函数和包括所述第一目标函数作为函数要素的第二扩展的目标函数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 基于 dmpo imrt 规划 中的 局部 冷点 方法 装置 系统 介质 | ||
【主权项】：
一种借助于辐射分配器(LINAC)调节要暴露于辐射的对象中的剂量分布的第一规范的方法，所述规范是基于第一目标函数计算的，所述目标函数依据针对所述辐射分配器的机器设置来定义针对对象中的至少一个相应位置的剂量要求，所述方法包括以下步骤：基于所述第一规范来识别(S210)至少一个位置，针对所述至少一个位置，相对于阈值，依据所述第一目标函数的相应剂量要求不被满足；接收(S220)针对所识别的至少一个位置的新剂量要求；基于两个目标函数来计算(S250)第二规范，所述两个目标函数包括所述第一目标函数和由所述第一目标函数形成的第二扩展的目标函数，其中，所述扩展的目标函数除了所述新剂量要求之外还包括依据所述第一目标函数的所述剂量要求中的至少一个。
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