[发明专利]用于清洁光电导表面的清洁系统有效
| 申请号： | 201580074299.8 | 申请日： | 2015-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN107430373B | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | S·博伦斯坦;D·梅舒拉姆;A·柯德姆 | 申请（专利权）人： | 惠普印迪格公司 |
| 主分类号： | G03G21/00 | 分类号： | G03G21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用至少两个擦拭器刮板对光电导表面(16)清洁颗粒和过量流体，其中，第一擦拭器刮板(12)与所述光电导表面(16)接触，并且从所述光电导表面(16)擦拭所述颗粒中的至少一些和所述过量流体中的至少一些，并且其中，第二擦拭器刮板(14)与所述光电导表面(16)接触，并且从所述光电导表面(16)擦拭已经经过所述第一擦拭器刮板的所述颗粒中的至少一些和所述过量流体中的至少一些。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 电导 表面 系统 | ||
【主权项】：
一种用于对光电导表面清洁颗粒和过量流体的清洁系统，所述光电导表面相对于所述清洁系统移动，所述清洁系统包括：至少两个擦拭器刮板，其包括第一擦拭器刮板和第二擦拭器刮板；所述第一擦拭器刮板与所述光电导表面接触，并且从所述光电导表面擦拭所述颗粒中的至少一些和所述过量流体中的至少一些；并且所述第二擦拭器刮板与所述光电导表面接触，并且从所述光电导表面擦拭已经经过所述第一擦拭器刮板的所述颗粒中的至少一些和所述过量流体中的至少一些。
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