[发明专利]使用明场暗场物镜的独特的倾斜照明技术及与其相关的成像方法有效
| 申请号： | 201580063408.6 | 申请日： | 2015-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN107250872B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | M·C·普特曼;J·B·普特曼;J·A·奥兰多;J·G·布尔曼 | 申请（专利权）人： | 毫微光电子影像股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/08 | 分类号： | G02B21/08;G02B21/12;G02B5/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 金旭鹏;肖冰滨 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于使用成像系统对样本的表面进行成像的方法，该成像系统利用具有暗场通道和明场通道的BD物镜，BD物镜具有圆周。使用第一弧形照射光通过暗场通道倾斜地照射样本，第一弧形照射光遍布圆周的第一弧倾斜地照射样本。从样本表面反射出来的第一弧形照射光被记录为来自从样本表面反射出来的第一弧形照射光的样本的第一图像，并且处理器通过形貌成像技术处理第一图像来生成样本的3D形貌。还提供成像设备，作为其他实施例的进一步的处理步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 暗场 物镜 独特 倾斜 照明 技术 与其 相关 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种用于使用成像系统对样本的表面进行成像的方法，所述成像系统利用具有暗场通道和明场通道的BD物镜，所述BD物镜具有圆周，所述方法包括以下步骤：使用第一弧形照射光通过所述暗场通道倾斜地照射所述样本，所述第一弧形照射光遍布所述圆周的第一弧倾斜地照射所述样本，所述第一弧形照射光从所述样本的所述表面反射出来；以及从所述样本的所述表面反射出来的所述第一弧形照射光来记录所述样本的第一图像；以及通过形貌成像技术处理所述第一图像来生成所述样本的3D形貌。
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