[发明专利]带电粒子束照射装置有效

专利信息
申请号: 201580058909.5 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN106999729B 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 古川卓司;高山茂贵;矢泽孝;金井芳治;佐藤耕辅;折笠朝文;小柳圭 申请(专利权)人: 国立研究开发法人量子科学技术研究开发机构;东芝能源系统株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 杨谦;胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种能够抑制大型化、并且能够确保足够的照射野的带电粒子束照射装置。本实施方式的带电粒子束照射装置具备:第一扫描电磁体部,向与带电粒子束所入射的第一方向实质上正交的第二方向偏转上述带电粒子束;以及第二扫描电磁体部,向与上述第一方向以及上述第二方向实质上正交的第三方向偏转上述带电粒子束偏转,上述第一扫描电磁体部以及第二扫描电磁体部相对于上述第一方向并列地配置。
搜索关键词: 带电 粒子束 照射 装置
【主权项】:
1.一种带电粒子束照射装置,具备:第一扫描电磁体部,向与带电粒子束所入射的第一方向正交的第二方向偏转上述带电粒子束,该第一扫描电磁体部的在上述带电粒子束的出射侧的口径大于入射侧的口径;以及第二扫描电磁体部,向与上述第一方向以及上述第二方向正交的第三方向偏转上述带电粒子束,该第二扫描电磁体部的在上述带电粒子束的出射侧的口径大于入射侧的口径,上述第一扫描电磁体部以及第二扫描电磁体部相对于上述第一方向并列地配置。
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