[发明专利]制造光刻结构的光学系统有效
| 申请号： | 201580054446.5 | 申请日： | 2015-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN106796404B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | P.许布纳;G.克拉姆珀特;S.里克特;T.梅普斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于制造光刻结构的光学系统(1)具有投射镜头系统(8)，其用于将制造结构的写入光束引导到基板平面(12)中的基板表面(10)的区域中的写入焦点(9)中。偏转装置(5)用于在基板表面(10)的区域中的写入场(13)内偏转写入光束的写入焦点(9)。预览镜头系统(14)，用于在基板表面(10)的区域中成像预览场(15)。预览场(15)的面积是写入场(13)的面积的至少10倍。投射镜头系统(8)和预览镜头系统(14)由共同框架(16)支撑。基板固定器(18)在平行于基板表面(10)的平面(x，y)中以两个平移自由度(x，y)可位移。此外，系统(1)具有控制单元(27)，控制单元包括存储器(28)，存储器中存储写入场(13)的位置相对于预览场(15)的位置的相对坐标。呈现出一种光学系统，其中以良好目标精度实现了在制造光刻结构时被处理的基板的定位。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 光刻 结构 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种制造光刻结构的光学系统(1)，所述光学系统(1)包括：‑‑投射光学单元(8)，用于将制造结构的写入光束引导到基板平面(12)中的基板表面(10)的区域中的写入焦点(9)，‑‑偏转装置(5)，用于在所述基板表面(10)的所述区域中的写入场(13)内偏转所述写入光束的写入焦点(9)，‑‑预览光学单元(14)，用于将预览场(15)成像在所述基板表面(10)的所述区域中，其中所述预览场(15)的面积是所述写入场(13)的面积的至少10倍，‑‑其中所述投射光学单元(8)和所述预览光学单元(14)由共同框架(16)承载，‑‑基板固定器(18)，所述基板固定器(18)在平行于所述基板表面(10)的平面(xy)中是以两个平移自由度(x，y)可位移的，‑‑控制单元(27)，所述控制单元(27)包括存储器(28)，所述存储器(28)中存储所述写入场(13)的位置相对于所述预览场(15)的位置的相对坐标(RKx，RKy)。
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