[发明专利]抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法有效
| 申请号： | 201580052900.3 | 申请日： | 2015-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN106796405B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 山中司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;C01B7/01;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，所述抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、及Zn的金属元素浓度均为3ppm以下，根据抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液，尤其在使用有机系显影液形成微细化(例如，30nm节点以下)图案的负型图案形成方法中，可减少颗粒的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂膜 图案 化用 有机 处理 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液，其中Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、及Zn的金属元素浓度均为3ppm以下。
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