[发明专利]聚乙烯醇系薄膜和其制造方法、以及偏振薄膜、偏光板在审

专利信息
申请号: 201580049177.3 申请日: 2015-10-13
公开(公告)号: CN107073764A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 田村直久;山本友之 申请(专利权)人: 日本合成化学工业株式会社
主分类号: B29C41/26 分类号: B29C41/26;B29C41/28;B29C41/46;B29C55/06;G02B5/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇,李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明为一种聚乙烯醇系薄膜,其为将含有聚乙烯醇系树脂(A)的薄膜形成材料制膜而得到的聚乙烯醇系薄膜,将上述聚乙烯醇系薄膜在5重量%的硼酸水溶液中、于56℃浸渍0.5分钟(初始状态)后,在硼酸水溶液中以拉伸速度70mm/秒拉伸了初始状态的2.5倍时的真应力(Xa)与边继续持续拉伸边在硼酸水溶液中拉伸了初始状态的4.3倍时的真应力(Xc),满足下述式(1)。因此,即使不提高拉伸倍率也可以得到光学特性优异的偏振薄膜,由此,还具有能够缩短以往的拉伸时间、生产率提高之类的效果,另外,还具有伴随着高拉伸的薄膜张力增加所导致的对拉伸装置的负担降低、由高拉伸所导致的断裂的降低之类的效果。5.0≤Xc/Xa≤9.0···(1)。
搜索关键词: 聚乙烯醇 薄膜 制造 方法 以及 偏振 偏光
【主权项】:
一种聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,其为将含有聚乙烯醇系树脂(A)的薄膜形成材料制膜而得到的聚乙烯醇系薄膜,将所述聚乙烯醇系薄膜在5重量%的硼酸水溶液中、于56℃浸渍0.5分钟即初始状态后,在硼酸水溶液中以拉伸速度70mm/秒拉伸了初始状态的2.5倍时的真应力Xa与边继续持续拉伸边在硼酸水溶液中拉伸了初始状态的4.3倍时的真应力Xc,满足下述式(1),5.0≤Xc/Xa≤9.0···(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本合成化学工业株式会社,未经日本合成化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580049177.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top