[发明专利]用于生成对象的X射线投影的系统和方法有效
| 申请号： | 201580048218.7 | 申请日： | 2015-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN106687042B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | K·J·恩格尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/03;A61B6/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于生成对象的X射线投影的X射线成像系统，所述X射线成像系统包括：X射线设备，其具有用于形成多个X射线射束(104)的单个X射线源(110)；滤波器(120)，其被定位于所述多个X射线射束内；对象空间，要被成像的所述对象要被容纳在所述对象空间中；以及X射线探测器(150)，其包括多个像素(151…155)的阵列。所述X射线设备、所述滤波器和所述多个像素被配置使得至少一个像素被曝光于所述多个X射线射束。由特定像素接收的X射线辐射经历通过所述滤波器的相同的光谱滤波。接收经历所述相同的光谱滤波的所述X射线辐射的像素被总结为像素子集。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 对象 射线 投影 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于生成对象的X射线投影的X射线成像系统，所述X射线成像系统包括：X射线设备，其具有用于形成多个X射线射束的单个X射线源；滤波器，其被配置为被定位于所述多个X射线射束内；对象空间，要被成像的所述对象要被容纳在所述对象空间中；以及X射线探测器，其包括多个像素的阵列；其中，所述X射线设备、所述滤波器和所述多个像素被配置使得至少一个像素要被曝光于所述多个X射线射束；其中，要由特定像素接收的X射线辐射要经历通过所述滤波器的相同的光谱滤波；其中，要接收经历所述相同的光谱滤波的所述X射线辐射的像素要被总结为像素子集；并且其中，要存在像素的至少两个子集。
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