[发明专利]用于生成组成受控和强度受控离子流的设备和相关方法有效
| 申请号： | 201580047813.9 | 申请日： | 2015-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN106688076B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 詹皮耶罗·门萨;拉法埃莱·科雷亚莱 | 申请（专利权）人： | 纳米技术分析责任有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/10 | 分类号： | H01J49/10;H01J49/16;F16K99/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;王红艳 |
| 地址： | 意大利*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 描述了一种用于生成受控离子流I的设备1。设备1是便携式的，并且包括电离室6、至少一个入口构件2和至少一个离子出口构件3。电离室6适于保持在真空压力下，并且被配置为电离其中包含的气体颗粒。至少一个入口构件2被配置为抑制或允许和/或调节气体颗粒的气流Fi在电离室中的入口。另外，至少一个入口构件2包括气流调节接口22，气流调节接口具有多个亚微米尺寸纳米孔20，适于以受控方式被打开或关闭，以抑制或允许相应的多个气体微流通过至少一个入口构件2。至少一个离子出口构件3被配置为抑制或允许和/或调节输出气流Fo和所生成的离子的离开电离室6的离子流I。至少一个出口构件3包括孔口30，适于以受控方式被打开或关闭，以便控制输出气流Fo的输出传导性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 组成 受控 强度 离子 设备 相关 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于生成受控离子流(I)的设备(1)，所述设备(1)是便携式的，并且包括：‑电离室(6)，适于保持在真空压力下，并且被配置为电离其中包含的气体颗粒；‑至少一个入口构件(2)，被配置为调节所述气体颗粒的输入气流(Fi)在所述电离室中的入口；‑至少一个离子出口构件(3)，被配置为调节输出气流(Fo)和所生成的离子的离开所述电离室(6)的离子流(I)；其中，所述至少一个入口构件(2)包括气流调节接口(22)，所述气流调节接口具有多个亚微米尺寸的纳米孔(20)，所述多个亚微米尺寸的纳米孔适于以受控的方式被打开或关闭，以抑制或允许相应的多个气体微流通过所述至少一个入口构件(2)；并且其中，所述至少一个离子出口构件(3)包括孔口(30)，适于以受控的方式被打开或关闭，以便控制所述输出气流(Fo)的输出传导性。
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