[发明专利]用于X射线成像设备的光栅设备有效
| 申请号： | 201580041982.1 | 申请日： | 2015-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN106575533B | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | E·勒斯尔;T·克勒;H-A·维施曼 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02;G21K1/06;G21K1/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于X射线成像设备的光栅设备(1)、干涉仪单元(2)、X射线成像系统、X射线成像方法以及用于控制这样的设备的计算机程序单元和存储有这样的计算机程序单元的计算机可读介质。用于X射线成像设备的光栅设备(1)包括光栅布置(10)和致动布置。光栅布置(10)包括多个光栅分段(11)。所述致动布置被配置为在第一位置与第二位置之间利用至少旋转部件来移动所述多个光栅分段(11)。在所述第一位置中，所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的路径中，使得所述光栅分段(11)影响所述X射线射束(30)的部分。在所述第二位置中，所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的所述路径的所述部分外部，使得所述X射线射束(30)的所述部分不受所述光栅分段(11)影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 成像 设备 光栅 | ||
【主权项】：
1.一种用于X射线成像设备的光栅设备(1)，所述X射线成像设备包括被配置为提供X射线射束(30)的X射线源布置(60)，所述光栅设备包括：光栅布置(10)；致动布置(20)；其中，所述光栅布置(10)包括多个光栅分段(11)；其中，所述致动布置(20)被配置为在第一位置与第二位置之间利用至少旋转部件来移动所述多个光栅分段(11)；其中，在所述第一位置中，所述光栅分段(11)在操作期间被布置在所述X射线射束(30)的路径中，使得所述光栅分段(11)影响所述X射线射束(30)的部分，以用于差分相位对比成像和/或暗场成像的目的；并且其中，在所述第二位置中，所述光栅分段(11)在操作期间被布置在所述X射线射束(30)的所述路径的部分的外部，使得所述X射线射束(30)的所述部分不受所述光栅分段(11)影响，以用于衰减成像的目的；以及X射线抗散射光栅或X射线准直器，其被提供有叶片(40)，其中，(i)所述致动布置(20)和/或所述光栅分段(11)当处在所述第二位置中时被集成在所述叶片(40)中；(ii)所述叶片(40)的至少子集包括凹槽，所述凹槽被配置为容纳当处在所述第二位置中时的所述致动布置(20)和/或所述光栅分段(11)；和/或(iii)所述致动布置(20)和所述光栅分段(11)当处在所述第二位置中时沿着所述X射线射束(30)的方向被定位在所述叶片(40)的后面或前面，使得所述X射线射束(30)的所述部分不受所述致动布置(20)和所述光栅分段(11)影响。
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