[发明专利]取代的[1,2,4]三唑化合物

摘要

本发明涉及式(I)化合物、其制备和用途，其中各变量如说明书和权利要求书中所定义。

主权项

式I化合物及其N‑氧化物和可农用盐：其中R1为C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基或C3‑C6环烷基；其中R1的脂族结构部分未被取代或者带有1、2、3个或至多最大可能数目的相同或不同基团R1a：R1a相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和C1‑C4卤代烷氧基；其中R1的环烷基结构部分未被取代或者带有1、2、3、4、5个或至多最大数目的相同或不同基团R1b：R1b相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和C1‑C4卤代烷氧基；R2为氢、C1‑C4烷基、C2‑C4链烯基或C2‑C4炔基；其中R2的脂族结构部分未被取代或者带有1、2、3个或至多最大可能数目的相同或不同基团R2a：R2a相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和C1‑C4卤代烷氧基；R3选自氢、卤素、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C2‑C4链烯基、C2‑C4炔基、C3‑C6环烷基和S(O)p(C1‑C4烷基)，其中p为0、1或2，以及其中R3各自未被取代或者被1、2、3或4个R3a进一步取代：R3a相互独立地选自卤素、CN、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基；R4、R5和R6相互独立地选自氢、卤素、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C4烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烷基‑C1‑C4烷基、‑N(RA)2、C3‑C6卤代环烷基、芳基和芳氧基；R4和R5一起为＝O且R6如上所定义；R4和R5一起为＝C(Ra)2和R6如上所定义以及Ra如下所定义；或者R4和R5一起形成碳环或杂环且R6如上所定义；其中R4、R5和R6的脂族结构部分未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同的基团Ra进一步取代：Ra相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和Si(Rs)3，其中Rs为C1‑C4烷基；其中R4、R5和R6的环烷基结构部分未被取代或者带有1、2、3、4或5个或至多最大数目的相同或不同基团Rb：Rb相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和C1‑C4卤代烷氧基；其中R4、R5和R6的芳基和芳氧基结构部分未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同的基团Rc进一步取代：Rc相互独立地选自卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基；其中由R4和R5一起形成的碳环或杂环未被取代或者带有1、2、3或4个相同或不同的基团Rd：Rd相互独立地选自卤素、CN、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C2‑C4卤代炔基和‑C(O)O‑C1‑C4烷基；并且其中RA相互独立地选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和‑C(O)O‑C1‑C4烷基；X为O，S(O)n，其中n为0、1或2，或者NRN；RN选自氢、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、‑C(O)C1‑C6烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基‑C1‑C4烷基、‑S(O)2‑C1‑C6烷基和‑S(O)2芳基，其中RN未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同的基团RNa进一步取代：RNa相互独立地选自卤素、CN、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基；条件是R4、R5和R6中至少一个不为氢；条件是当R2和R3均为氢且R4‑6为F时，R1不为C(CH3)3、CH(OH)CH3、CHCH3CH＝CH2或环丙烷‑2‑甲腈；以及条件是当R2和R3均为氢，‑CR4R5R6为CF2CHFCl时，R1不为CH3。