[发明专利]微波加热照射装置有效
申请号: | 201580041451.2 | 申请日: | 2015-04-16 |
公开(公告)号: | CN106576402B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 小柳智之;泷川道生;稻泽良夫;佐佐木拓郎;本间幸洋 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H05B6/64 | 分类号: | H05B6/64;B01J19/12;F27D11/12;H05B6/80 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 俞丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的微波加热照射装置包括:具有开口部并从开口部照射微波从而对收纳于内部的试料进行加热的反应炉(1);配置于反应炉(1)的外侧并照射微波的一个微波辐射源(3);配置于反应炉(1)的上方并将由微波辐射源(3)所照射的微波反射至反应炉(1)的开口部的旋转二次曲面镜(4);以及设于反应炉(1)的开口部并用电介质至少形成被旋转二次曲面镜(4)反射的微波的照射部位以使该微波透射至反应炉的内部的盖子(电介质板(2)),配置微波辐射源(3)和旋转二次曲面镜(4),使得在盖子的用电介质形成的微波的照射部位上形成被旋转二次曲面镜(4)反射的微波的极化波进行透射的入射角。 | ||
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【主权项】:
1.一种微波加热照射装置,其特征在于,包括:反应炉,该反应炉具有开口部,从所述开口部照射微波,从而对收纳于内部的试料进行加热;一个以上的微波辐射源,该一个以上的微波辐射源配置于所述反应炉的外侧,并照射微波;旋转椭圆镜,该旋转椭圆镜配置于所述反应炉的上方,将由所述微波辐射源所照射的微波反射至所述反应炉的开口部;盖子,该盖子设于所述反应炉的开口部,用电介质至少形成被所述旋转椭圆镜反射的微波的照射部位,以使该微波透射至所述反应炉的内部;以及凹凸部,该凹凸部设置于所述盖子的形成面中与所述反应炉的内侧相对的面上除来自所述旋转椭圆镜的微波的照射部位以外的部位,使该微波发生漫反射,配置所述微波辐射源和所述旋转椭圆镜,使得被所述旋转椭圆镜反射的微波照射至所述盖子的用电介质形成的微波的照射部位时的入射角成为所述电介质的布儒斯特角。
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