[发明专利]用于电子装置的光发射减少膜在审
| 申请号： | 201580040377.2 | 申请日： | 2015-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN106536195A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·D·莫;博尼·G·西蒙斯 | 申请（专利权）人： | 健康有限责任公司 |
| 主分类号： | B32B27/08 | 分类号： | B32B27/08;B32B7/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 顾晋伟,冷永华 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用于装置202的屏蔽件200。在一个实施方案中，用于装置202的屏蔽件200包含聚合物基体。屏蔽件200还可包含分散在聚合物基体内的吸收剂1002。屏蔽件200还可使光的紫外线范围的透射率降低至少90％，其中所述光的紫外线范围包括380纳米至400纳米的范围，并且其中屏蔽件200还使高能可见光范围的透射率降低至少10％，其中所述高能可见光范围包括415纳米至555纳米的范围，并且其中所述屏蔽件还使红光范围的透射率降低至少10％，其中所述红光范围包括625纳米至740纳米的范围。此外，屏蔽件200还可被配置成使足够的由装置202产生的光透过，使得由装置202产生的图像基本上不被屏蔽件200改变。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电子 装置 发射 减少 | ||
【主权项】：
一种用于装置的屏蔽件，所述屏蔽件包含：聚合物基体；分散在所述聚合物基体内的吸收剂；其中所述屏蔽件使光的紫外线范围的透射率降低至少90％，其中所述光的紫外线范围包括380纳米至400纳米的范围，并且其中所述屏蔽件还使高能可见光范围的透射率降低至少10％，其中所述高能可见光范围包括415纳米至555纳米的范围，并且其中所述屏蔽件还使红光范围的透射率降低至少10％，其中所述红光范围包括625纳米至740纳米的范围；并且其中所述屏蔽件被配置成使足够的由所述装置产生的光透过，使得由所述装置产生的图像基本上不被所述屏蔽件改变。
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