[发明专利]用于磁性随机存取存储器(MRAM)单元的切换膜结构有效

专利信息
申请号: 201580038132.6 申请日: 2015-05-22
公开(公告)号: CN106537508B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: X·李;W-C·陈;Y·陆;K·李;S·H·康 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;H01L27/22;H01L43/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈炜
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种MRAM单元可包括磁性隧穿结(MTJ)。该MTJ包括销钉层、阻挡层、自由层和覆盖层。该MRAM单元进一步包括双向二极管选择器,该双向二极管选择器直接耦合到MTJ的电极,以实现对MTJ的存取。
搜索关键词: 用于 磁性 随机存取存储器 mram 单元 切换 膜结构
【主权项】:
1.一种磁性随机存取存储器MRAM单元,包括:磁性隧穿结MTJ,所述MTJ包括销钉层、阻挡层、自由层和覆盖层;以及双向二极管选择器,所述双向二极管选择器包括直接耦合到所述销钉层的选择器电极以及直接耦合到所述MTJ的所述覆盖层的选择器层,以实现对所述MTJ的存取,其中,所述选择器层具有为所述MRAM单元提供读和切换功能的非线性I‑V行为。
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