[发明专利]磁共振成像装置及磁共振成像方法在审
| 申请号： | 201580037706.8 | 申请日： | 2015-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN106659419A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 平井甲亮 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 李国华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一个激励RF脉冲之后，照射多个重聚焦RF脉冲的序列中，为了无论切片厚度、FOV等摄影条件如何，都能够抑制已知的磁场变形发生位置中的尖状伪影，通过在激励RF脉冲与最初的重聚焦RF脉冲之间，在相位编码方向及/或切片编码方向上施加在该位置上使横向磁化发生相位偏移的、微小的失相梯度磁场，从而对该位置上的NMR信号(回波信号)的信号值进行抑制，使尖状伪影降低。 | ||
| 搜索关键词： | 磁共振 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种磁共振成像装置，其特征在于具备：摄像部，其具备静磁场发生部、梯度磁场发生部、高频磁场发生部及高频磁场检测部；和测量部，其按照摄影序列使各部动作并执行测量，所述摄影序列是自旋回波系序列，在所述自旋回波系序列的高频磁场脉冲间施加失相梯度磁场，以使发生磁场变形的磁场变形位置的回波信号降低。
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