[发明专利]低摩擦构件、图像形成装置和低摩擦覆膜形成剂

摘要

本发明的课题是提供即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦构件。本发明所涉及的低摩擦构件LS至少由润滑性材料PL、PS和聚酰亚胺树脂MR形成。并且，其表面粗糙度Rsk为0.500以上，润滑性材料的表面露出率为15.0％以上。另外，表面粗糙度Rsk在0.0900以上且0.1400以下的范围内，并且，特别优选润滑性材料的表面露出率为35.0％以上。润滑性材料优选为氟树脂。并且，该低摩擦构件具有即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的特性。

主权项

1.低摩擦构件，所述低摩擦构件含有中值粒径在10μm以上且100μm以下范围内的第一氟树脂粉末、中值粒径在0.1μm以上且5μm以下范围内的第二氟树脂粉末以及聚酰亚胺树脂，表面粗糙度Rsk为0.500以上，且前述第一氟树脂粉末和前述第二氟树脂粉末构成的氟树脂粉末的表面露出率为15.0％以上。