[发明专利]包含芳香族羟甲基化合物反应而得的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201580036571.3 | 申请日： | 2015-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN106662819B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 西卷裕和;坂本力丸;桥本圭祐;远藤贵文 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G8/24;C08G14/06;C08G14/073;C08G14/09 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 孙丽梅;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供一种光刻用抗蚀剂下层膜，其为了呈现良好的涂布成膜性而在抗蚀剂溶剂(光刻中使用的溶剂)中具有高溶解性，且具有比抗蚀剂小的干蚀刻速度选择比。本课题的解决方法是一种包含酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述酚醛清漆树脂含有通过芳香族化合物(A)的芳香环与含羟基的芳香族羟甲基化合物(B)反应而得到的结构体(C)。芳香族化合物(A)是用于构成酚醛清漆树脂中包含的结构体(C)的成分。含羟基的芳香族羟甲基化合物(B)用式(1)表示。含羟基的芳香族羟甲基化合物(B)为2‑羟基苄醇、4‑羟基苄醇、或2,6‑二叔丁基‑4‑羟基甲基苯酚。 |
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| 搜索关键词： | 包含 芳香族 甲基 化合物 反应 酚醛 清漆 树脂 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含酚醛清漆树脂，所述酚醛清漆树脂含有通过芳香族化合物(A)的芳香环与含羟基的芳香族羟甲基化合物(B)的反应而得到的结构体(C)。
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