[发明专利]流体处理系统在审
| 申请号： | 201580034901.5 | 申请日： | 2015-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN106573797A | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 乌尔夫·阿尔贝乌斯;亨里克·拉格斯泰特;斯塔凡·斯特兰德;廖海东 | 申请（专利权）人： | 伟伦万特公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 康艳青,姚开丽 |
| 地址： | 瑞典斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于处理流体(4)的流体处理系统(2)，该系统(2)包括‑围绕至少一个光源(8)并且安装在系统(2)的室(10)内的半透明套管(6)；‑被配置成在其中安放套管(6)的罩体(12)，空腔(18)被限定在套管(6)的外表面(14)与罩体(12)的内表面(16)之间、限定用于使流体(4)在其中流动的腔。该系统(2)还包括‑使所述流体(4)以3m/s或更高的速度流过空腔(18)的流体流动装置(22)，使得关于外表面(14)该流体的速度防止积垢和/或结垢聚集在套管(6)的外表面(14)上，‑被配置成使所述流体(4)再循环通过所述空腔(18)的再循环组件(24)。此外，提供了一种用于在该流体处理系统中处理流体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种用于处理流体(4)的流体处理系统(2)，该系统(2)包括：‑围绕至少一个光源(8)并且安装在系统(2)的室(10)内的半透明套管(6)；‑被配置成在其中安放套管(6)的罩体(12)，空腔(18)被限定在套管(6)的外表面(14)与罩体(12)的内表面(16)之间、限定用于使流体(4)在其中流动的腔；其特征在于，系统(2)包括：‑使所述流体(4)以3米/秒或更大的速度流过空腔(18)的流体流动装置(22)，使得关于外表面(14)该流体的速度防止积垢和/或结垢聚集在套管(6)的外表面(14)上，‑被配置成使所述流体(4)再循环通过所述空腔(18)的再循环组件(24)。
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