[发明专利]微镜组件和制造方法有效

专利信息
申请号: 201580032509.7 申请日: 2015-05-29
公开(公告)号: CN106458569B 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: R·施特劳布;J·巴德尔;J·穆霍 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: B81B3/00 分类号: B81B3/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 侯鸣慧
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明公开了一种微镜组件,其具有镜膜片;具有至少一个第一承载元件;针对每个第一承载元件具有一个第一耦合元件,其布置在镜膜片和相应第一承载元件之间并且构造用于使相应第一承载元件与镜膜片机械地耦合;具有至少一个第二承载元件,其与至少一个第一承载元件机械地耦合;和针对每个第二承载元件具有一个第二耦合元件,其构造用于机械式接触。此外,本发明公开了一种用于制造按照本发明微镜组件的方法。
搜索关键词: 组件 制造 方法
【主权项】:
1.微镜组件(1),具有一个镜膜片(2);具有至少一个第一承载元件(3‑1至3‑22);针对每个第一承载元件(3‑1至3‑22)具有一个第一耦合元件(4‑1至4‑22),所述第一耦合元件布置在所述镜膜片(2)和相应的第一承载元件(3‑1至3‑22)之间并且构造用于使相应的第一承载元件(3‑1至3‑22)与所述镜膜片(2)机械地耦合;具有至少一个第二承载元件(5‑1至5‑3),所述第二承载元件与所述至少一个第一承载元件(3‑1至3‑22)机械地耦合;和针对每个第二承载元件(5‑1至5‑3)具有一个第二耦合元件(6‑1至6‑3),所述第二耦合元件构造用于被机械式接触,其中,所述至少一个第一承载元件(3‑1至3‑22)具有硅并且这样确定尺寸,使得在一个蚀刻过程中在所述镜膜片(2)和所述第一承载元件(3‑1至3‑22)之间的具有相应氧化物的第一耦合元件(4‑1至4‑22)没有完全被蚀刻掉;和其中,所述至少一个第二承载元件(5‑1至5‑3)具有硅并且这样确定尺寸,使得在一个蚀刻过程中处于相应的第二承载元件(5‑1至5‑3)和所述镜膜片(2)之间的氧化物层被完全蚀刻掉。
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