[发明专利]在晶片检验期间确定定位于收集孔隙中的光学元件的配置

摘要

本发明提供用于在晶片检验期间确定定位于收集孔隙中的光学元件的配置的方法及系统。一种系统包含检测器，所述检测器经配置以在光学元件具有不同配置时，检测通过包含一组收集孔隙的所述光学元件的来自晶片的光，借此产生针对所述不同配置的不同图像。所述系统还包含计算机子系统，所述计算机子系统经配置以用于依据所述不同图像中的两者或两者以上建构额外图像，且用于产生所述额外图像中的任一者的所述两个或两个以上不同图像并不仅包含针对所述组中的单个收集孔隙产生的不同图像。所述计算机子系统经进一步配置以用于基于所述不同图像及所述额外图像而选择所述光学元件的所述不同或额外配置中的一者。

主权项

一种经配置以在晶片检验期间确定定位于收集孔隙中的光学元件的配置的系统，所述系统包括：光源，其经配置以产生被引导到所述晶片的光；光学元件，其定位于收集光瞳平面中，其中所述光学元件包括一组收集孔隙；检测器，所述检测器经配置以在所述光学元件具有不同配置时，检测通过所述光学元件的来自所述晶片的光，借此产生针对所述不同配置的不同图像，其中所述不同配置中的至少一者仅包括所述组中的单个收集孔隙，且其中所述不同配置中的至少另一者包括所述组中的所述收集孔隙中的两者；及计算机子系统，其经配置以用于：依据所述不同图像中的两者以上建构一个或多个额外图像，其中用于产生所述一个或多个额外图像中的任一者的两个以上不同图像并不仅包括针对所述组中的单个收集孔隙产生的所述不同图像；确定所述不同图像及所述一个或多个额外图像的一个或多个特性；将所述不同图像及所述一个或多个额外图像的所述一个或多个特性进行比较；基于所述比较的结果而选择所述光学元件的所述不同或额外配置中的一者用于所述晶片的检验；基于所述不同图像而确定从所述晶片以不同方向散射的光之间的相移；及基于所确定的相移而确定在所述晶片的所述检验期间供在所述系统中使用的相衬滤波器的一个或多个参数。