[发明专利]用于生成对象的图像的成像系统有效
申请号: | 201580029374.9 | 申请日: | 2015-05-13 |
公开(公告)号: | CN106456094B | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | R·普罗克绍;T·克勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;G01N23/046 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于生成对象的图像的成像系统(17),如计算机断层摄影系统。由具有谱探测元件和非谱探测元件的探测器(6)生成谱测量投影数据和非谱测量投影数据,并且通过使用能够已经引起所述非谱测量投影数据的模型材料分布并且通过基于所述模型材料分布模拟谱估计投影数据的测量结果,来估计谱估计投影数据。图像是基于测量和估计的谱投影数据重建的。除所述谱测量投影数据之外,使用所述谱估计投影数据可以得到高质量谱成像,尤其是高质量谱计算机断层摄影成像,其使用不仅具有通常更复杂的谱探测元件而且具有较简单的非谱探测元件的简化探测器。 | ||
搜索关键词: | 用于 生成 对象 图像 成像 系统 | ||
【主权项】:
一种用于生成对象的图像的成像系统,所述成像系统(17)包括:‑测量投影数据提供单元(18),其用于提供谱测量投影数据和非谱测量投影数据,其中,已经基于已经穿过包括所述对象(14)的成像区域(5)的辐射(4)由具有谱探测元件(16)和非谱探测元件(15)的探测器(6)分别生成了所述谱测量投影数据和所述非谱测量投影数据,‑估计单元(10),其用于估计对应于结束于所述非谱探测元件(15)处的辐射路径的谱估计投影数据,其中,为了估计针对结束于非谱探测元件(15)处的辐射路径的谱估计投影数据值,所述估计单元(10)适于:a)基于所述非谱测量投影数据来确定所述成像区域(5)内的模型材料分布,所述模型材料分布能够已经引起对应于所述辐射路径的非谱测量投影数据值;并且b)基于所述模型材料分布来模拟所述谱估计投影数据值的测量结果,‑重建单元(11),其用于基于所述谱测量投影数据和所述谱估计投影数据来重建所述对象(14)的图像。
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