[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法有效
申请号: | 201580025871.1 | 申请日: | 2015-06-30 |
公开(公告)号: | CN106463146B | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 田村健;深田顺平 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
在玻璃基板的研磨处理中,抑制玻璃基板的主表面的外周端部发生隆起。在研磨玻璃基板的主表面的研磨处理中,设向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给的研磨液内包含的游离磨粒的粒径(μm)为x(x>0),设每粒径x的磨粒的相对频度(%)为y,设y为x的函数f(x)时,在0.5μm≤x≤1.0μm的范围内存在y的极大值y1,y1是y的最大值,设与y1对应的粒径为x1时,xy坐标平面中的曲线y=f(x)在x>x1的区域内具有3个拐点P2(x2,y2)、P3(x3,y3)、P4(x4,y4)(x1 |
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【主权项】:
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该制造方法包括研磨处理,所述研磨处理是向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含游离磨粒的研磨液,对所述玻璃基板的主表面进行研磨,其特征在于,设所述研磨液内包含的游离磨粒的粒径为x,这里粒径的单位为μm,x>0,设粒径x的磨粒的相对频度为y,这里的相对频度为百分比,并且设y为x的函数f(x)时,在0.5μm≤x≤1.0μm的范围内存在y的极大值y1,y1是y的最大值,设与y1对应的粒径为x1时,xy坐标平面内的曲线y=f(x)在x>x1的区域内具有至少3个拐点P2(x2,y2)、P3(x3,y3)、P4(x4,y4),这里x1
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