[发明专利]用于在柔性基板上制造微型结构的系统和方法

摘要

一种用于制造诸如集成电路的图案化微型结构的系统包括由滚柱运输至一系列处理站的连续柔性基板。为确保在各种站间正确对准，基板被提供有至少一个基准点，所述至少一个基准点被升高高于该基板的顶表面一定高度，该高度在干涉测量观看基板时最大化光学对比度。至少一个处理站包括光学装置，所述光学装置能够干涉测量地识别基准点以为了对准目的并随后用可修改的光图案照射基板，作为光刻工艺的部分。基准点也能够用于识别由诸如热和水分等外部因素引起的基板的总的几何变化。接着，网状物调整元件能够用于施加选择性热或张力至基板，以校正此类几何变化。

主权项

1.一种用于制造微型结构的系统，所述系统包括：(a)在其上制造所述微型结构的柔性基板，所述柔性基板包括顶表面、底表面和基准点，所述基准点具有位于与所述顶表面不同的平面中的参考表面；和(b)光学装置，用于通过产生第一波长和第一波幅的源光来干涉测量地检测与所述基准点相关的信息，所述源光被分成反射离开所述基板的测试光束和反射离开参考镜的参考光束，所述测试光束和所述参考光束被重新组合以形成具有强度的重新组合的光束，其中在重新组合时，所述测试光束和所述参考光束之间的干涉影响所述重新组合的光束的强度，所述重新组合的光束的所述强度被用于产生所述基板的所述顶表面与所述基准点之间的光学对比度。