[发明专利]共聚焦线检验光学系统

摘要

本发明提供一种线扫描晶片检验系统，其包含用于移除旁瓣并增强所述扫描方向上的分辨率的共聚焦狭缝孔径滤波器。与所述狭缝孔径滤波器相关联的位置检测器监测并校正相对于所述狭缝孔径的照明线图像位置以将图像位置变化保持于容许极限内。每一检测器测量线位置，且接着使用所述线位置信号以在反馈环路中的集光路径中调整光学、机械、及电子组件。可在运行时间校准过程中或在检验期间运用所述反馈环路以增强稳定性。

主权项

一种晶片检验系统，其包括：一或多个集光通道，其包括多个光学元件，所述光学元件经配置以将来自线照明系统的、散射离开受检验的晶片的光聚焦于共聚焦平面处；一或多个狭缝孔径滤波器，所述一或多个狭缝孔径滤波器中的至少一者与所述一或多个集光通道中的至少一者相关联；及一或多个位置检测器，所述一或多个位置检测器中的至少一者与所述一或多个集光通道中的至少一者相关联，其中所述一或多个狭缝孔径滤波器中的至少一者经配置以滤除来自透射到相关联的图像传感器的图像的旁瓣。