[发明专利]包括用于影像尺寸控制的投影系统的光刻装置有效
| 申请号： | 201580019559.1 | 申请日： | 2015-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN106462077B | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 唐纳德·查尔斯·迪尔沃思 | 申请（专利权）人： | 库力&索法利特克有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B15/14 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 荷兰埃*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本公开涉及光刻装置(100)及用于控制经投影的基板图案(W)的相对影像尺寸(S1/S0)的方法。投影系统(10)被配置用于将掩膜图案(M)的影像作为基板图案(W)投影到基板(6)上，其中该投影系统(10)包括调整透镜(13)，该调整透镜(13)可在包含中心位置(X0)的范围(Xmin、Xmax)中移动以便控制相对影像尺寸(S1/S0)。该投影系统(10)被配置来将掩膜图案(M)投影至调整透镜(13)上，以使得当调整透镜(13)位于中心位置(X0)时，从调整透镜(13)的视角来看的视掩膜图案(M’)出现之处离调整透镜(13)的距离(2*F)是调整透镜(13)的焦距(F)的两倍。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 用于 影像 尺寸 控制 投影 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置(100)，其包括：掩膜台(3)，被配置用于放置掩膜(4)，所述掩膜(4)包括掩膜图案(M)，以便根据所述掩膜图案(M)来图案化照射光束(R1)；基板台(5)，被配置用于放置基板(6)，以便将基板图案(W)接收至所述基板(6)上；以及投影系统(10)，被配置用于将所述掩膜图案(M)的影像作为所述基板图案(W)投影至所述基板(6)上，其中所述投影系统(10)包括：调整透镜(13)，能够在包含中心位置(X0)的范围中移动，以便通过所述调整透镜(13)的相对位置来控制经投影的基板图案(W)的相对影像尺寸；以及控制器(20)，被配置为通过控制所述调整透镜(13)的所述相对位置来调整所述经投影的基板图案(W)的所述相对影像尺寸；其中所述投影系统(10)被配置为将所述掩膜图案(M)投影至所述调整透镜(13)上，以使得当所述调整透镜(13)位于所述中心位置(X0)时，从所述调整透镜(13)的视角来看的视掩膜图案(M’)出现之处离所述调整透镜(13)的距离(2*F)是所述调整透镜(13)的焦距(F)的两倍。
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