[发明专利]应力测定方法、应力测定用构件及应力测定用装置在审
| 申请号： | 201580019444.2 | 申请日： | 2015-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN106164635A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 林卓弘 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24;G01L1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 通过本发明，可提供应力测定方法、包含上述直线偏振膜和上述相位差膜的应力测定用构件、以及包含上述应力测定用构件和包含光弹性层的应力显示构件的应力测定用装置，所述应力测定方法是包括对包含被测定物的具有光弹性的物品照射依次透过直线偏振膜和相位差膜后的光的工序、及依次隔着上述相位差膜和上述直线偏振膜检测来源于上述光的由上述物品反射的反射光的工序的应力测定方法，上述相位差膜的在波长为550nm的光下的面内延迟Re(550)满足100nm≤Re(550nm)≤700nm，上述相位差膜的在波长为450nm的光下的面内延迟Re(450)满足Re(450)/Re(550)≥0.9。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 测定 方法 构件 装置 | ||
【主权项】：
一种应力测定方法，其包括：对包含被测定物的具有光弹性的物品照射依次透过直线偏振膜和相位差膜后的光的工序；以及依次隔着所述相位差膜和所述直线偏振膜检测来源于所述光的由所述物品反射的反射光的工序，所述相位差膜的在波长为550nm的光下的面内延迟Re(550)满足100nm≤Re(550nm)≤700nm，所述相位差膜的在波长为450nm的光下的面内延迟Re(450)满足Re(450)/Re(550)≥0.9。
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