[发明专利]发光设备在审
申请号: | 201580015613.5 | 申请日: | 2015-04-30 |
公开(公告)号: | CN106133567A | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔 | 申请(专利权)人: | 飞利浦照明控股有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 荷兰艾恩*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种发光设备包括:至少一个第一光源(21),其适于在操作中发射具有第一光谱分布的第一光(13);至少一个第二光源(22),其适于在操作中发射具有第二光谱分布的第二光(14);光导(4),其包括至少一个第一光输入表面(41)、至少一个第二光输入表面(46)、以及第一光出射表面(42),至少一个第一光输入表面和第一光出射表面以相对于彼此的不同于零的角度延伸;以及发光元件(77),其被设置为与第一光出射表面邻近,光导适于将具有第一光谱分布的第一光(13)的至少一部分转换成具有第三光谱分布的第三光(17),引导第二光(14),并且将第三光(17)的至少一部分和第二光(14)的至少一部分从第一光出射表面(42)耦合出来,发光元件适于将第二光(14)的至少一部分转换成具有第四光谱分布的第四光(18)。 | ||
搜索关键词: | 发光 设备 | ||
【主权项】:
一种发光设备(1),包括:至少一个第一光源(21),适于在操作中发射具有第一光谱分布的第一光(13),所述第一光谱分布包括在430nm至480nm的范围内的峰值波长,至少一个第二光源(22),适于在操作中发射具有第二光谱分布的第二光(14),所述第二光谱分布包括在350nm至410nm的范围内的峰值波长,以及光导(4),包括至少一个第一光输入表面(41)、至少一个第二光输入表面(46)、以及第一光出射表面(42),所述至少一个第一光输入表面和所述第一光出射表面以相对于彼此成不同于零的角度延伸,所述光导(4)适于在所述至少一个第一光输入表面(41)处接收具有所述第一光谱分布的所述第一光(13),将具有所述第一光谱分布的所述第一光(13)的至少一部分转换成具有第三光谱分布的第三光(17),将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)的至少一部分从所述第一光出射表面耦合出来,所述第三光谱分布包括在500nm至800nm的范围内的峰值波长,所述光导还适于在所述至少一个第二光输入表面(46)处接收具有所述第二光谱分布的所述第二光(14),将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少一部分从所述第一光出射表面耦合出来,所述发光设备还包括发光元件(77),所述发光元件被设置为与所述第一光出射表面邻近,所述发光元件适于将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少一部分转换成具有第四光谱分布的第四光(18),所述第四光谱分布包括在430nm至500nm的范围内的峰值波长。
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