[发明专利]X-射线微成像有效

专利信息
申请号: 201580011381.6 申请日: 2015-01-02
公开(公告)号: CN106061388B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 汉斯·马丁·赫兹;雅各布·克里斯特·拉松;乌尔夫·伦德斯特伦;汉斯·丹尼尔·拉松;卡门·米哈埃拉·福格特 申请(专利权)人: 杰特克公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03;G01N23/223;H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柳春琦
地址: 瑞典斯*** 国省代码: 瑞典;SE
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摘要: 发明通过使用用于x‑射线荧光计算机断层扫描术的线发射的、准单色的x‑射线源,提供了在X‑射线成像领域中分辨率和对比度的提高。适合用于此目的的特定类型的x‑射线源是线发射的液体喷射阳极x‑射线源。使用纳米粒子,优选具有金属核心的涂覆纳米粒子获得X‑射线荧光。来自x‑射线源的x‑射线辐射在被递送到纳米粒子之前使用能量色散光学器件整形和滤光。
搜索关键词: 射线 成像
【主权项】:
1.一种进行x‑射线荧光计算机断层扫描术的方法,所述方法包括以下步骤:使用线发射的液体喷射阳极x‑射线源(10)生成x‑射线辐射;使用能量选择性光学器件(18)将所述x‑射线辐射整形和带通滤光;将所述x‑射线辐射递送到存在于样品(23)中的纳米粒子以诱发x‑射线荧光;使用能量色散检测器(26)检测来自所述纳米粒子的荧光;以及由检测到的荧光形成x‑射线图像。
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