[发明专利]蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置有效

专利信息
申请号: 201580010163.0 申请日: 2015-03-30
公开(公告)号: CN106029939B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 小幡胜也;冈本英介;本间良幸;武田利彦 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 刘晓迪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。蒸镀掩模(10)将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层积而构成,在该蒸镀掩模(100)的拉伸方法中,在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50),在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部,将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上,通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸,由此解决上述课题。
搜索关键词: 蒸镀掩模 拉伸 方法 框架 制造 有机半导体 元件 装置
【主权项】:
1.一种蒸镀掩模的拉伸方法,该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成,所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部,该蒸镀掩模的拉伸方法的特征在于,包含:拉伸辅助部件固定工序,在所述蒸镀掩模的仅一面上重叠拉伸辅助部件,且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分,将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上;第一拉伸工序,通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸,对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。
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