[发明专利]用于断层合成成像的设备和方法有效
| 申请号： | 201580008350.5 | 申请日： | 2015-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN105992558B | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | H·H·霍曼;F·贝格纳;K·埃哈德;H·P·J·贝里隆德 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 王英,刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于断层合成的设备，所述设备包括掩膜生成器模块(101)，其被配置为基于被扫描的对象的几何三维模型来生成二元掩膜；图像捕获模块(102)，其被配置为扫描所述对象的二维投影图像的系列；以及图像处理模块(103)，其被配置为在根据二维投影图像的所扫描的系列重建三维图像体积期间应用所生成的二元掩膜，并且被配置为将所重建的图像体积的范围限制到几何模型的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 断层 合成 成像 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于断层合成成像的设备，所述设备包括：‑掩膜生成器模块(101)，其被配置为基于被扫描对象的几何三维模型来生成二元掩膜，所述几何三维模型是根据对所述对象的激光扫描来导出的；‑图像捕获模块(102)，其被配置为扫描所述对象的二维投影图像的序列；以及‑图像处理模块(103)，其被配置为在根据二维投影图像的所扫描的序列来重建三维图像体积期间应用所生成的二元掩膜，并且被配置为将所重建的图像体积的范围限制到几何三维模型的范围。
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