[发明专利]用于膝盖的负重成像的对准框架在审
申请号: | 201580006338.0 | 申请日: | 2015-01-27 |
公开(公告)号: | CN105939666A | 公开(公告)日: | 2016-09-14 |
发明(设计)人: | 尼尔·西格尔;弗兰克·斯佩兰扎 | 申请(专利权)人: | 弯曲束有限责任公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;王智 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于在一个或多个膝盖的负重成像中使用的对准框架,所述对准框架包括底座,具有从底座向上延伸的支撑体。大腿定位器附连到所述支撑体。大腿定位器包括用于由用户的大腿接触的面板部分以及位于面板部分之下的成像部分。以不干扰成像传输(例如x射线MRI传输)的材料制成((例如以x射线兼容和/或MRI兼容材料制成)所述成像部分。至少一个脚对准设备处于所述底座上。所述脚对准设备包括具有内壁和脚趾壁的至少一个脚定位器,所述内壁从中间延伸远离所述脚趾壁。 | ||
搜索关键词: | 用于 膝盖 负重 成像 对准 框架 | ||
【主权项】:
一种用于在膝盖的负重成像中使用的对准框架,所述对准框架包括:底座;支撑体,从底座向上延伸;大腿定位器,附连到所述支撑体,所述大腿定位器包括用于由用户的大腿接触的面板部分以及位于所述面板部分之下的成像部分,所述成像部分以不干扰成像传输的材料制成;以及在所述底座上的至少一个脚对准设备,所述脚对准设备包括至少一个脚定位器,所述脚定位器包括具有内壁和脚趾壁的垂直壁,所述内壁从中间延伸远离所述脚趾壁。
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